盛美上海前段半导体制造清洗设备Ultra C Tahoe取得重要性能突破
文 / 风致
2024-11-08 09:29:43
来源:亚汇网
【盛美上海前段半导体制造清洗设备Ultra C Tahoe取得重要性能突破】 盛美半导体设备(上海)股份有限公司(简称“盛美上海”)今天宣布旗下清洗设备产品Ultra C Tahoe取得重要性能突破。此次提升能够满足更先进的晶圆代工、逻辑器件及存储器件的严格技术要求。据盛美上海估算，仅硫酸一项每年就可节省高达50万美元的成本，且在硫酸废液处理上可进一步降低成本并对环境更友好。中国大陆多家大型晶圆厂客户已将升级后的Ultra C Tahoe投入生产。多家其他逻辑器件和存储器客户正在对该设备进行评估，预计更多设备将在2024年底之前交付。
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