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璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机,支持<10nm 线宽

文 / 小亚 2025-08-05 12:01:55 来源:亚汇网

璞璘在PL-SR系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈,实现了纳米级的压印膜厚,达到了平均残余层<10nm、残余层变化<2nm、压印结构深宽比>7:1的技术指标,可对应线宽<10nm的NIL工艺。璞璘科技表示其PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经初步完成存储芯片、硅基(oS)微显示器、硅光(SiPh)及先进封装(AVP)等芯片研发验证;其最小可实现20mm×20mm压印模板均匀拼接,最终可实现12英寸晶圆级超大模板。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。

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